真空鍍膜
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離子鍍膜(PVD鍍膜)技術(shù),其原理是在真空條件下,采用低電壓、大電流的電弧放電技術(shù),利用氣體放電使靶材蒸發(fā)并使被蒸發(fā)物質(zhì)電離,在電場的作用下,使被蒸發(fā)物質(zhì)或其反應(yīng)產(chǎn)物沉積在工件上。
PVD是英文Physical Vapor Deposition的縮寫,中文意思是“物理氣相沉積”,是指在真空條件下,用物理的方法使材料沉積在被鍍工件上的薄膜制備技術(shù)。
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